高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材

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AI AI 产品介绍
高纯度3N锰靶材,专为科研应用设计,锰含量≥99.9%,规格φ25.4×3mm,适用于薄膜沉积、材料科学研究等精密实验。该靶材具有优异的物理性能和化学稳定性,能保证实验结果的准确性和可重复性。采购时建议确认具体应用场景对杂质含量的要求,以及是否需要特殊表面处理。建议提前与供应商确认生产批次的质检报告,确保符合您的实验标准。
本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成,请以实际产品为准。
规格参数
产地 其他
品名 金属锰
牌号 其他
规格 φ25.4×3mm
锰含量≥ 99.9%
产品详情

高纯锰 科研用 3N纯度 Mn靶材

品名:金属锰;牌号:其他;产地:其他;锰含量≥:99.9%;规格:φ25.4×3mm;起订量:11件;发货期限:14天;发货地:陵城区

适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。

应用领域:生产及科研方面应用,光学,微纳加工,器件等行业,广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

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