高纯铝靶材5N 科研用
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¥170 起
AI AI 产品介绍
高纯铝靶材5N科研用，山东产，规格φ25.4×3mm，铝含量≥99.999%，适用于科研实验及精密镀膜。靶材纯度高、杂质少，确保薄膜质量稳定一致，适用于半导体、光学镀膜等领域。建议确认具体批次检测报告，确保符合您实验要求。采购前建议确认靶材密度、晶粒结构等参数，以满足特定工艺需求。起订量及交期请咨询供应商获取最新信息。
本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成，请以实际产品为准。
规格参数
| 产地 | 山东 |
|---|---|
| 品名 | 其他 |
| 牌号 | 其他 |
| 规格 | φ25.4×3mm |
| 铝含量≥ | 99.999 |
产品详情
高纯铝靶材5N 科研用
品名：其他；牌号：其他；产地：山东；铝含量≥：99.999；规格：φ25.4×3mm；起订量：1件；发货地：陵城区
2-1 适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。
2-2 应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
3-1 材质：铝（Al Target）。
3-2 纯度：99.99%，99.999%，99.9999%。
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高纯铝靶材5N 科研用
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