高纯铌Nb靶、氧化铌靶Nb2O5、MoNb钼铌合金靶材
| 品名 | 铌Nb |
|---|---|
| 材质 | 金属 |
| 规格 | 规格定制 |
| 产地/厂家 | 苏州 |
高纯铌Nb靶、氧化铌靶Nb2O5、MoNb钼铌合金靶材
品名:铌Nb;材质:金属;产地/厂家:苏州;规格:规格定制;起订量:1件;发货地:昆山市
1、定义:NB靶材是溅射靶材的一种,在溅射镀膜过程中作为被离子束轰击的材料,其表面原子在离子束轰击下离开固体,运动沉积在基板上形成薄膜。溅射镀膜是一种广泛应用的PVD(物理气相沉积)镀膜方式,常用于多种终端行业的生产过程中。
按纯度分类:包括3N、3N5、4N、4N5、5N等不同纯度的NB靶材。不同纯度的靶材适用于不同的下游应用,例如集成电路用靶材对原材料纯度要求最高,一般在5N(99.999%)以上,平面显示约5N,光伏和磁记录一般是4N以上的纯度要求。
按应用领域分类:可应用于平板显示器、太阳能、半导体光伏等领域,不同的下游应用对NB靶材的性能要求各异。
1、全球市场规模:2023年全球NB靶材市场规模大约为某百万美元,预计2030年达到某百万美元,2024 - 2030期间年复合增长率(CAGR)为某%。就销量而言,2023年全球NB靶材销量为某数量,预计2030年将达到某数量,年复合增长率为某%。
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