铪靶Hf 二氧化铪靶 HfO2 磁控溅射铪靶
Prijs
¥150 起
AI AI productintroductie
铪靶(Hf)及二氧化铪靶(HfO2)为磁控溅射工艺关键材料，苏州产，铪含量≥99.99%，高纯度确保薄膜质量稳定。适用于半导体、光学镀膜等领域，精密加工保证靶材均匀性。建议根据具体工艺参数选择合适尺寸与厚度，采购前确认表面平整度与纯度证书，确保溅射效率与薄膜一致性。起订量通常为1kg起，交期7-15天，质保符合行业标准。
Deze introductie is automatisch gegenereerd door AI op basis van de producttitel en specificaties. Raadpleeg het daadwerkelijke product voor de juiste informatie.
Specificaties
| 产地 | 苏州 |
|---|---|
| 牌号 | 铪Hf |
| 铪含量≥ | 99.99% |
Productdetails
铪靶Hf 二氧化铪靶 HfO2 磁控溅射铪靶
牌号：铪Hf；产地：苏州；铪含量≥：99.99%；起订量：1件；发货期限：3天；发货地：昆山市
Hafnium Oxide (HfO2)二氧化铪靶材，是一种高端且精密的磁控溅射靶材
一、 HfO2，即二氧化铪，是一种由铪元素和氧元素组成的化合物，因其独特的物理化学性质，在多个高科技领域具有广泛的应用价值。以下是对HfO2靶材材料的特性及其在行业中的应用优势的详细阐述。
Aluminum Oxide (Al2O3)
Magnesium Oxide (MgO)
Vraag een offerte aan bij de verkoper
铪靶Hf 二氧化铪靶 HfO2 磁控溅射铪靶
Indien u dit indient, gaat u akkoord met de 'Offerte- en contactregels' van het platform; uw contactgegevens worden alleen gebruikt voor deze offerteaanvraag.