铪靶材99.9%高纯铪溅射靶材真空镀膜专用定制尺寸

Đơn vị件AI 译文 · Tiếng Việt
多语言版本: 中文
Giá ¥1 起
Đăng nhu cầu mua
MOQ
1 件
Thời gian giao hàng
20 ngày
Nơi xuất phát
长沙市
Khu vực
湖南 长沙市
Lượt xem
16
AI Giới thiệu sản phẩm AI
铪靶材99.9%高纯铪溅射靶材专为真空镀膜工艺设计,产地湖南,牌号Hf,铪含量≥99.9%。提供定制尺寸服务,适用于半导体、光学镀膜等高精密领域。高纯度确保优异的膜层均匀性与附着力,满足严苛工业要求。建议根据具体镀膜设备参数定制,确保尺寸匹配。采购需关注批次一致性及表面平整度,建议索取材质检测报告。
Giới thiệu này được AI tạo tự động dựa trên tiêu đề và thông số sản phẩm, vui lòng tham khảo sản phẩm thực tế.
Thông số kỹ thuật
产地 湖南
牌号 Hf
铪含量≥ 99.9
Chi tiết sản phẩm

铪靶材99.9%高纯铪溅射靶材真空镀膜专用定制尺寸

牌号:Hf;产地:湖南;铪含量≥:99.9;起订量:1件;发货期限:20天;发货地:长沙市

铪(Hf)溅射靶材是一种高附加值的功能材料,核心应用于半导体、光学、核工业等**领域。它通常由高纯度金属铪加工而成,利用其优异的物理和化学特性,通过物理气相沉积(PVD)技术制备功能性薄膜。

铪靶材的关键特性和典型参数如下:

常见为 99.9% (3N) 至 99.99% (4N),部分普通规格为97%-6-9-10

13.31 g/cm³-1-2-3