氮化钛靶材TiN2靶材磁控溅射靶材

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AI AI 产品介绍
京迈研氮化钛靶材TiN2,高纯度99.99%,杂质含量0.05%,粒度300,北京产金属材质,专业磁控溅射靶材。可根据客户需求定制规格,适用于精密镀膜工艺,确保涂层均匀致密。起订量建议咨询供应商,交期与质保需具体确认,工业级品质满足半导体、工具镀膜等高要求应用场景。
本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成,请以实际产品为准。
规格参数
产地 北京
材质 金属
牌号 靶材
用途 磁控溅射靶材
粒度 300
规格 根据客户要求定制
主要成分 99.99%
杂质含量 0.05%
品牌/厂家 京迈研
产品详情

氮化钛靶材TiN2靶材磁控溅射靶材

品牌/厂家:京迈研;牌号:靶材;材质:金属;规格:根据客户要求定制;产地:北京;用途:磁控溅射靶材;主要成分:99.99%;杂质含量:0.05%;粒度:300;发货地:通州区

氮化钛(TiN)熔点:2950℃,密度:5.43-5.44g/cm³,莫氏硬度8-9,抗热冲击性好。其熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高,而密度却比大多数金属氮化物低,因此是一种很有特色的耐热材料。在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应,TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用,因此TiN坩埚是研究刚液与一些元素相互作用的优良容器。TiN有着诱人的金黄色、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和超导性,可应用于高温结构材料和超导材料。

熔点 2950℃ 密度 5.43g/cm3

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