氮化钛靶材TiN2靶材磁控溅射靶材
价格
¥10 起
AI AI 产品介绍
京迈研氮化钛靶材TiN2,高纯度99.99%,杂质含量0.05%,粒度300,北京产金属材质,专业磁控溅射靶材。可根据客户需求定制规格,适用于精密镀膜工艺,确保涂层均匀致密。起订量建议咨询供应商,交期与质保需具体确认,工业级品质满足半导体、工具镀膜等高要求应用场景。
本介绍由 AI 基于产品标题与规格自动生成,请以实际产品为准。
规格参数
| 产地 | 北京 |
|---|---|
| 材质 | 金属 |
| 牌号 | 靶材 |
| 用途 | 磁控溅射靶材 |
| 粒度 | 300 |
| 规格 | 根据客户要求定制 |
| 主要成分 | 99.99% |
| 杂质含量 | 0.05% |
| 品牌/厂家 | 京迈研 |
产品详情
氮化钛靶材TiN2靶材磁控溅射靶材
品牌/厂家:京迈研;牌号:靶材;材质:金属;规格:根据客户要求定制;产地:北京;用途:磁控溅射靶材;主要成分:99.99%;杂质含量:0.05%;粒度:300;发货地:通州区
氮化钛(TiN)熔点:2950℃,密度:5.43-5.44g/cm³,莫氏硬度8-9,抗热冲击性好。其熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高,而密度却比大多数金属氮化物低,因此是一种很有特色的耐热材料。在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应,TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用,因此TiN坩埚是研究刚液与一些元素相互作用的优良容器。TiN有着诱人的金黄色、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和超导性,可应用于高温结构材料和超导材料。
熔点 2950℃ 密度 5.43g/cm3
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