氮化钛靶材TiN2靶材磁控溅射靶材
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京迈研氮化钛靶材TiN2，高纯度99.99%，杂质含量0.05%，粒度300，北京产金属材质，专业磁控溅射靶材。可根据客户需求定制规格，适用于精密镀膜工艺，确保涂层均匀致密。起订量建议咨询供应商，交期与质保需具体确认，工业级品质满足半导体、工具镀膜等高要求应用场景。
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المواصفات والمعايير
| 产地 | 北京 |
|---|---|
| 材质 | 金属 |
| 牌号 | 靶材 |
| 用途 | 磁控溅射靶材 |
| 粒度 | 300 |
| 规格 | 根据客户要求定制 |
| 主要成分 | 99.99% |
| 杂质含量 | 0.05% |
| 品牌/厂家 | 京迈研 |
تفاصيل المنتج
氮化钛靶材TiN2靶材磁控溅射靶材
品牌/厂家：京迈研；牌号：靶材；材质：金属；规格：根据客户要求定制；产地：北京；用途：磁控溅射靶材；主要成分：99.99%；杂质含量：0.05%；粒度：300；发货地：通州区
氮化钛（TiN）熔点：2950℃，密度：5.43-5.44g/cm³，莫氏硬度8-9，抗热冲击性好。其熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高，而密度却比大多数金属氮化物低，因此是一种很有特色的耐热材料。在高温下不与铁、铬、钙和镁等金属反应，TiN坩埚在CO与N2气氛下也不与酸性渣和碱性渣起作用，因此TiN坩埚是研究刚液与一些元素相互作用的优良容器。TiN有着诱人的金黄色、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和超导性，可应用于高温结构材料和超导材料。
熔点 2950℃ 密度 5.43g/cm3
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