氟化铝靶材AlF3靶材磁控溅射靶材
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京迈研生产的氟化铝靶材为高纯度磁控溅射材料，纯度达99.99%，杂质含量控制在0.05%以下。产地北京，金属材质，粒度300，可根据客户需求定制规格。适用于半导体、光学镀膜等精密工业领域，确保薄膜沉积质量与工艺稳定性。建议采购前确认具体应用参数匹配度，建议批量采购以优化成本。
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المواصفات والمعايير
| 产地 | 北京 |
|---|---|
| 材质 | 金属 |
| 牌号 | 靶材 |
| 用途 | 磁控溅射靶材 |
| 粒度 | 300 |
| 规格 | 根据客户要求定制 |
| 主要成分 | 99.99% |
| 杂质含量 | 0.05% |
| 品牌/厂家 | 京迈研 |
تفاصيل المنتج
氟化铝靶材AlF3靶材磁控溅射靶材
品牌/厂家：京迈研；牌号：靶材；材质：金属；规格：根据客户要求定制；产地：北京；用途：磁控溅射靶材；主要成分：99.99%；杂质含量：0.05%；粒度：300；发货地：通州区
氟化铝（AlF3）常为无色或白色结晶，性质稳定，不溶于水，不溶于酸和碱，不被氢还原，强热不分解但升华，与液氨或浓硫酸共加热，或者与氢氧化钾共熔均无反应，加热到300-400℃能被水蒸气部分分解为氟化氢和氧化铝。主要用于炼铝生产，以降低熔点和提高电解质的导电率。酒精生产中用作起副发酵作用的抑制剂。也用作陶瓷釉和搪瓷釉的助熔剂和釉药的组分。还可用作冶炼非铁金属的熔剂。
中文名 氟化铝 化学式 AlF3 相对分子质量 83.98
熔点(℃)：1040 相对密度（水=1）：1.91 沸点(℃)：1537
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