专业生产高纯铌靶材 铌溅射靶材 Nb 靶材 可定制 质量保证

中诺新材生产的高纯铌靶材，纯度达3N5，杂质含量仅0.05%，适用于磁控溅射镀膜等高端应用。产品为板材状态，尺寸、粒度可定制，满足不同工艺需求。铌靶材具有优异的物理性能，抗拉强度1MPa，延伸率1%，确保镀膜质量稳定。作为专业镀膜材料，广泛应用于半导体、光学镀膜等领域。厂家提供质量保证，支持批量采购，交期稳定，是工业镀膜工艺的理想选择。