高纯铝靶材现货 苏州纳丰真空技术供应

高纯铝靶材由苏州纳丰真空技术提供现货供应，纯度≥99.99%，适用于半导体镀膜、光学涂层等精密制造领域。靶材尺寸可根据客户需求定制，表面粗糙度Ra≤0.2μm，确保镀膜均匀性。采用高真空熔炼工艺，晶粒尺寸均匀，杂质含量低，提高溅射效率和薄膜质量。起订量5片，常规规格有Φ100mm、Φ150mm等，交期3-5天，提供1年质保，符合SEMI标准，适用于光伏、LED等行业镀膜工艺。