高纯铝靶材现货 苏州纳丰真空技术供应

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高纯铝靶材由苏州纳丰真空技术提供现货供应,纯度≥99.99%,适用于半导体镀膜、光学涂层等精密制造领域。靶材尺寸可根据客户需求定制,表面粗糙度Ra≤0.2μm,确保镀膜均匀性。采用高真空熔炼工艺,晶粒尺寸均匀,杂质含量低,提高溅射效率和薄膜质量。起订量5片,常规规格有Φ100mm、Φ150mm等,交期3-5天,提供1年质保,符合SEMI标准,适用于光伏、LED等行业镀膜工艺。
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