光学与精密抛光用高纯纳米二氧化锆ZH-ZrO230N

光学与精密抛光用高纯纳米二氧化锆ZH-ZrO230N，粒径30nm，纯度99.9%以上，为单斜晶型，莫氏硬度约8.5。该材料具有高折射率、低光散射及优异的化学稳定性，适用于精密光学元件、半导体晶圆、蓝宝石衬底的化学机械抛光（CMP）及精密研磨。其高硬度和化学惰性可提升抛光效率与表面质量，减少划痕。建议关注其分散性、团聚状态及批次稳定性。采购时需确认起订量、交期及MSDS，确保符合RoHS等环保合规要求。