供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必备材料
Prix
¥100 起
AI Introduction produit par IA
本产品为高纯黄金溅射靶材，纯度达99.999%，产地苏州，专为科研及PVD镀膜工艺设计。金基合金材质确保优异的溅射性能与膜层均匀性，适用于半导体、光学镀膜等高精度领域。可定制任意规格，满足不同设备需求。作为工业镀膜关键材料，该靶材具有高密度、低杂质特性，能显著提升镀膜质量与设备稼动率。建议根据具体工艺参数选择合适尺寸，以确保最佳溅射效率与成本控制。
Cette introduction est générée automatiquement par IA basée sur le titre et les spécifications du produit. Veuillez vous référer au produit réel pour plus de précision.
Spécifications
| 产地 | 苏州 |
|---|---|
| 含量 | 99999 |
| 品名 | 金矿 |
| 用途 | 镀膜 |
| 规格 | 任意 |
Détails du produit
供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必备材料
品名：金矿；含量：99999；规格：任意；用途：镀膜；产地：苏州；起订量：1件；发货期限：2天；发货地：昆山市
供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必备材料
Au01、Au1、AuGe12、AuGeNi11.5-5、AuGeNi12-4、Au80Sn20
金、金锗、金锗镍等溅射靶材通过磁控溅射工艺沉积在半导体芯片如GaAs、GaP、GaN等表面，形成欧姆接触膜、电极和连线膜。可形成多种金属化膜系统。
高纯贵金属金及合金是制造半导体芯片的关键基础材料。使用金靶材将金膜沉积在半导体芯片表面，形成欧姆接触膜、电极和连线膜，可形成多种金属化膜系统。该金属氧化膜系统可大量应用于制造发光二极管（LED），
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