供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必备材料

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本产品为高纯黄金溅射靶材,纯度达99.999%,产地苏州,专为科研及PVD镀膜工艺设计。金基合金材质确保优异的溅射性能与膜层均匀性,适用于半导体、光学镀膜等高精度领域。可定制任意规格,满足不同设备需求。作为工业镀膜关键材料,该靶材具有高密度、低杂质特性,能显著提升镀膜质量与设备稼动率。建议根据具体工艺参数选择合适尺寸,以确保最佳溅射效率与成本控制。
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ข้อมูลเทคนิค
产地 苏州
含量 99999
品名 金矿
用途 镀膜
规格 任意
รายละเอียดสินค้า

供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必备材料

品名:金矿;含量:99999;规格:任意;用途:镀膜;产地:苏州;起订量:1件;发货期限:2天;发货地:昆山市

供应高纯贵金属黄金及金基合金溅射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必备材料

Au01、Au1、AuGe12、AuGeNi11.5-5、AuGeNi12-4、Au80Sn20

金、金锗、金锗镍等溅射靶材通过磁控溅射工艺沉积在半导体芯片如GaAs、GaP、GaN等表面,形成欧姆接触膜、电极和连线膜。可形成多种金属化膜系统。

高纯贵金属金及合金是制造半导体芯片的关键基础材料。使用金靶材将金膜沉积在半导体芯片表面,形成欧姆接触膜、电极和连线膜,可形成多种金属化膜系统。该金属氧化膜系统可大量应用于制造发光二极管(LED),