供应铬靶铬溅射靶材Chromium(Cr)Targets科研及PVD必备材料

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供应铬靶铬溅射靶材,高纯度99.7%-99.95%,适用于科研及PVD镀膜工艺,可根据需求定制尺寸与重量。金属铬含量≥99.7%,是精密电子、光学镀膜等工业领域的关键材料,确保薄膜均匀性与附着力。建议根据具体应用场景选择合适纯度规格,确保工艺效果。
Cette introduction est générée automatiquement par IA basée sur le titre et les spécifications du produit. Veuillez vous référer au produit réel pour plus de précision.
Spécifications
产地 其他
品名 金属铬
尺寸 按需要
牌号 其他
纯度 99.7%-99.95%
重量 按需要
铬含量≥ 99.7%
Détails du produit

供应铬靶铬溅射靶材Chromium(Cr)Targets科研及PVD必备材料

品名:金属铬;牌号:其他;产地:其他;铬含量≥:99.7%;重量:按需要;纯度:99.7%-99.95%;尺寸:按需要;起订量:1件;发货期限:15天;发货地:长沙市

科研及PVD必备材料,定制尺寸,纯度,比例。或者来图定制。

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