供应铬靶铬溅射靶材Chromium(Cr)Targets科研及PVD必备材料
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供应铬靶铬溅射靶材，高纯度99.7%-99.95%，适用于科研及PVD镀膜工艺，可根据需求定制尺寸与重量。金属铬含量≥99.7%，是精密电子、光学镀膜等工业领域的关键材料，确保薄膜均匀性与附着力。建议根据具体应用场景选择合适纯度规格，确保工艺效果。
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Spesifikasi
| 产地 | 其他 |
|---|---|
| 品名 | 金属铬 |
| 尺寸 | 按需要 |
| 牌号 | 其他 |
| 纯度 | 99.7%-99.95% |
| 重量 | 按需要 |
| 铬含量≥ | 99.7% |
Detail Produk
供应铬靶铬溅射靶材Chromium(Cr)Targets科研及PVD必备材料
品名：金属铬；牌号：其他；产地：其他；铬含量≥：99.7%；重量：按需要；纯度：99.7%-99.95%；尺寸：按需要；起订量：1件；发货期限：15天；发货地：长沙市
科研及PVD必备材料，定制尺寸，纯度，比例。或者来图定制。
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