Quote Mode 厂家京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料
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AI AI Product Introduction
京迈研三氧化二铝靶材(Al2O3)，北京产，纯度99.99%，杂质含量0.01%，规格10*10，重0.05kg，适用于磁控溅射镀膜工艺，为蒸发料高纯度材料，确保镀膜质量稳定，符合工业精密加工要求，适合半导体、光学等高精密领域使用，采购需确认交期与质保条款。
This introduction is automatically generated by AI based on product title and specifications. Please refer to the actual product for details.
Specifications
| 产地 | 北京 |
|---|---|
| 牌号 | 靶材 |
| 类型 | 三氧化 二铝靶材 |
| 规格 | 10*10 |
| 重量 | 0.05kg |
| 铝含量 | 99.99% |
| 加工工艺 | 溅射 |
| 杂质含量 | 0.01% |
| 品牌/厂家 | 京迈研 |
Product Details
厂家京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料
品牌/厂家：京迈研；牌号：靶材；类型：三氧化 二铝靶材；加工工艺：溅射；产地：北京；铝含量：99.99%；杂质含量：0.01%；规格：10*10；重量：0.05kg；起订量：1；发货地：通州区
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