厂家京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料

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通州区
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北京 通州区
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AI AI 제품 소개
京迈研三氧化二铝靶材(Al2O3),北京产,纯度99.99%,杂质含量0.01%,规格10*10,重0.05kg,适用于磁控溅射镀膜工艺,为蒸发料高纯度材料,确保镀膜质量稳定,符合工业精密加工要求,适合半导体、光学等高精密领域使用,采购需确认交期与质保条款。
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규격 매개변수
产地 北京
牌号 靶材
类型 三氧化 二铝靶材
规格 10*10
重量 0.05kg
铝含量 99.99%
加工工艺 溅射
杂质含量 0.01%
品牌/厂家 京迈研
제품 상세

厂家京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料

品牌/厂家:京迈研;牌号:靶材;类型:三氧化 二铝靶材;加工工艺:溅射;产地:北京;铝含量:99.99%;杂质含量:0.01%;规格:10*10;重量:0.05kg;起订量:1;发货地:通州区