厂家京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料

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京迈研三氧化二铝靶材(Al2O3),北京产,纯度99.99%,杂质含量0.01%,规格10*10,重0.05kg,适用于磁控溅射镀膜工艺,为蒸发料高纯度材料,确保镀膜质量稳定,符合工业精密加工要求,适合半导体、光学等高精密领域使用,采购需确认交期与质保条款。
Cette introduction est générée automatiquement par IA basée sur le titre et les spécifications du produit. Veuillez vous référer au produit réel pour plus de précision.
Spécifications
产地 北京
牌号 靶材
类型 三氧化 二铝靶材
规格 10*10
重量 0.05kg
铝含量 99.99%
加工工艺 溅射
杂质含量 0.01%
品牌/厂家 京迈研
Détails du produit

厂家京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料

品牌/厂家:京迈研;牌号:靶材;类型:三氧化 二铝靶材;加工工艺:溅射;产地:北京;铝含量:99.99%;杂质含量:0.01%;规格:10*10;重量:0.05kg;起订量:1;发货地:通州区