Quote Mode 京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料
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AI AI Product Introduction
京迈研三氧化二铝靶材，北京产，铝含量99.99%，杂质含量0.01%，规格10*10，重0.05kg，适用于磁控溅射镀膜工艺。高纯度靶材确保镀膜质量稳定，适用于半导体、光学等领域精密镀膜需求。建议根据具体应用场景确认溅射参数匹配度，采购前建议向厂家索取详细材质报告及工艺参数表，确保满足您的技术要求。
This introduction is automatically generated by AI based on product title and specifications. Please refer to the actual product for details.
Specifications
| 产地 | 北京 |
|---|---|
| 牌号 | 靶材 |
| 类型 | 三氧化 二铝靶材 |
| 规格 | 10*10 |
| 重量 | 0.05kg |
| 铝含量 | 99.99% |
| 加工工艺 | 溅射 |
| 杂质含量 | 0.01% |
| 品牌/厂家 | 京迈研 |
Product Details
京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料
品牌/厂家：京迈研；牌号：靶材；类型：三氧化 二铝靶材；加工工艺：溅射；产地：北京；铝含量：99.99%；杂质含量：0.01%；规格：10*10；重量：0.05kg；起订量：1；发货地：通州区
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