京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料

京迈研三氧化二铝靶材，北京产，铝含量99.99%，杂质含量0.01%，规格10*10，重0.05kg，适用于磁控溅射镀膜工艺。高纯度靶材确保镀膜质量稳定，适用于半导体、光学等领域精密镀膜需求。建议根据具体应用场景确认溅射参数匹配度，采购前建议向厂家索取详细材质报告及工艺参数表，确保满足您的技术要求。