京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料

Đơn vị件AI 译文 · Tiếng Việt
多语言版本: 中文
Giá Yêu cầu báo giá
Sản phẩm này ở chế độ yêu cầu báo giá, hãy nhấp vào ”Yêu cầu báo giá” để nhận báo giá mới nhất từ nhà cung cấp
Đăng nhu cầu mua
MOQ
1 件
Nơi xuất phát
通州区
Khu vực
北京 通州区
Lượt xem
15
AI Giới thiệu sản phẩm AI
京迈研三氧化二铝靶材,北京产,铝含量99.99%,杂质含量0.01%,规格10*10,重0.05kg,适用于磁控溅射镀膜工艺。高纯度靶材确保镀膜质量稳定,适用于半导体、光学等领域精密镀膜需求。建议根据具体应用场景确认溅射参数匹配度,采购前建议向厂家索取详细材质报告及工艺参数表,确保满足您的技术要求。
Giới thiệu này được AI tạo tự động dựa trên tiêu đề và thông số sản phẩm, vui lòng tham khảo sản phẩm thực tế.
Thông số kỹ thuật
产地 北京
牌号 靶材
类型 三氧化 二铝靶材
规格 10*10
重量 0.05kg
铝含量 99.99%
加工工艺 溅射
杂质含量 0.01%
品牌/厂家 京迈研
Chi tiết sản phẩm

京迈研 磁控溅射靶材 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 镀膜蒸发料

品牌/厂家:京迈研;牌号:靶材;类型:三氧化 二铝靶材;加工工艺:溅射;产地:北京;铝含量:99.99%;杂质含量:0.01%;规格:10*10;重量:0.05kg;起订量:1;发货地:通州区