氧化铟靶材 溅射靶材 蒸镀 In2O3靶材 中诺新材 厂家

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中诺新材生产的高纯度氧化铟(In2O3)溅射靶材,纯度达4N(99.999%),提供板材、粉末和颗粒多种形态,尺寸和粒度可定制。该靶材专为磁控溅射镀膜工艺设计,具有优异的物理性能,硬度1MPa,抗拉强度1MPa,延伸率1%,主要成分为硒化铟。产地北京,符合工业镀膜材料标准,适用于各类精密光学涂层和电子器件制备。
Cette introduction est générée automatiquement par IA basée sur le titre et les spécifications du produit. Veuillez vous référer au produit réel pour plus de précision.
Spécifications
产地 北京
厂家 中诺新材
尺寸 可定制
材质 硒化铟
牌号 中诺新材
状态 靶材、粉末、颗粒
用途 磁控溅射镀膜材料
硬度 1
类型 板材
粒度 可定制
纯度 4N
规格 靶材、粉末、颗粒
延伸率 1%
主要成分 硒化铟
抗拉强度 1MPa
杂质含量 99.999%
品牌/厂家 中诺新材
Détails du produit

氧化铟靶材 溅射靶材 蒸镀 In2O3靶材 中诺新材 厂家

品牌/厂家:中诺新材;牌号:中诺新材;类型:板材;材质:硒化铟;规格:靶材、粉末、颗粒;产地:北京;用途:磁控溅射镀膜材料;主要成分:硒化铟;杂质含量:99.999%;粒度:可定制;抗拉强度:1MPa;延伸率:1%;硬度:1;状态:靶材、粉末、颗粒