氧化铟靶材 溅射靶材 蒸镀 In2O3靶材 中诺新材 厂家

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中诺新材生产的高纯度氧化铟(In2O3)溅射靶材,纯度达4N(99.999%),提供板材、粉末和颗粒多种形态,尺寸和粒度可定制。该靶材专为磁控溅射镀膜工艺设计,具有优异的物理性能,硬度1MPa,抗拉强度1MPa,延伸率1%,主要成分为硒化铟。产地北京,符合工业镀膜材料标准,适用于各类精密光学涂层和电子器件制备。
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Технические характеристики
产地 北京
厂家 中诺新材
尺寸 可定制
材质 硒化铟
牌号 中诺新材
状态 靶材、粉末、颗粒
用途 磁控溅射镀膜材料
硬度 1
类型 板材
粒度 可定制
纯度 4N
规格 靶材、粉末、颗粒
延伸率 1%
主要成分 硒化铟
抗拉强度 1MPa
杂质含量 99.999%
品牌/厂家 中诺新材
Подробности о продукте

氧化铟靶材 溅射靶材 蒸镀 In2O3靶材 中诺新材 厂家

品牌/厂家:中诺新材;牌号:中诺新材;类型:板材;材质:硒化铟;规格:靶材、粉末、颗粒;产地:北京;用途:磁控溅射镀膜材料;主要成分:硒化铟;杂质含量:99.999%;粒度:可定制;抗拉强度:1MPa;延伸率:1%;硬度:1;状态:靶材、粉末、颗粒