氧化铟靶材 溅射靶材 蒸镀 In2O3靶材 中诺新材 厂家
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中诺新材生产的高纯度氧化铟(In2O3)溅射靶材，纯度达4N(99.999%)，提供板材、粉末和颗粒多种形态，尺寸和粒度可定制。该靶材专为磁控溅射镀膜工艺设计，具有优异的物理性能，硬度1MPa，抗拉强度1MPa，延伸率1%，主要成分为硒化铟。产地北京，符合工业镀膜材料标准，适用于各类精密光学涂层和电子器件制备。
Esta introdução foi gerada automaticamente pela IA com base no título e especificações do produto. Por favor, consulte o produto real para referência.
Especificações
| 产地 | 北京 |
|---|---|
| 厂家 | 中诺新材 |
| 尺寸 | 可定制 |
| 材质 | 硒化铟 |
| 牌号 | 中诺新材 |
| 状态 | 靶材、粉末、颗粒 |
| 用途 | 磁控溅射镀膜材料 |
| 硬度 | 1 |
| 类型 | 板材 |
| 粒度 | 可定制 |
| 纯度 | 4N |
| 规格 | 靶材、粉末、颗粒 |
| 延伸率 | 1% |
| 主要成分 | 硒化铟 |
| 抗拉强度 | 1MPa |
| 杂质含量 | 99.999% |
| 品牌/厂家 | 中诺新材 |
Detalhes do produto
氧化铟靶材 溅射靶材 蒸镀 In2O3靶材 中诺新材 厂家
品牌/厂家：中诺新材；牌号：中诺新材；类型：板材；材质：硒化铟；规格：靶材、粉末、颗粒；产地：北京；用途：磁控溅射镀膜材料；主要成分：硒化铟；杂质含量：99.999%；粒度：可定制；抗拉强度：1MPa；延伸率：1%；硬度：1；状态：靶材、粉末、颗粒
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