氧化铟靶材 溅射靶材 蒸镀 In2O3靶材 中诺新材 厂家

中诺新材生产的高纯度氧化铟(In2O3)溅射靶材，纯度达4N(99.999%)，提供板材、粉末和颗粒多种形态，尺寸和粒度可定制。该靶材专为磁控溅射镀膜工艺设计，具有优异的物理性能，硬度1MPa，抗拉强度1MPa，延伸率1%，主要成分为硒化铟。产地北京，符合工业镀膜材料标准，适用于各类精密光学涂层和电子器件制备。